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QC增益介质外延生长技术发展,QC技术走向商业化
出处: 时间:2012.06.25

摘要:QC增益介质外延生长技术发展,QC技术走向商业化
   研究人员最初在实验室里使用QC技术探测和显示中红外波长的光。然而在过去的几年里,QC增益介质的外延生长技术的发展,使得这项技术从研究所和大学实验室中走向了商业化。在很多情况下,晶圆制造商们都利用自身在III -V族半导体材料(例如砷化镓和磷化铟)方面的生产经验、工艺和能力来获得性能优良的高品质QC芯片。目前,量子级联晶圆可以使用业界首选的金属化学气相沉积(MOCVD)技术来生长,与分子束外延(MBE)方法相比,MOCVD技术具有很多优势比如,更快的生长速度能够快速发展批量生产过程,显著提高产量并降低成本。激光打标机更多详情到www.lead-boom.com
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