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激光二次中性拉子质谱,新一代分析的佼佼者
出处: 时间:2012.06.16

摘要:激光二次中性拉子质谱,新一代分析的佼佼者
  激光二次中性拉子质谱是近几年来迅速发展的一种新型质谱,与二次离子质谱相比,它不仅具有高率、高选择性、高灵敏度等优点,且更适于定位分析。

  二次离子质谱(SIMS)是表面分析的一个重要手段。但由于二次离子在溅射产物中所占比例极小,从而限制了其灵敏度的提高;而且由于存在严重的基体效应,使溅射产额因样品表面化学性质的不同而相差2---3个量级,因而很难实现定量分析。另外,同质分子可在质谱上形成同质峰,为消除其影响,必须采用分辨率高、但传输率则很低的。

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